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晶圆生产:包含硅提炼及提纯、单晶硅生长、晶圆成型三个步骤,目前国际主流是8英寸晶圆,部分晶圆厂12英寸产线逐步投产,晶圆尺寸越大,良品率越高。
芯片设计:IGBT制造的前期关键流程,目前主流的商业化产品基于Trench-FS设计,不同厂家设计的IGBT芯片特点不同,表现在性能上有一定差异。
芯片制造:芯片制造高度依赖产线设备和工艺,全球能制造出顶尖光刻机的厂商不足五家;要把先进的芯片设计在工艺上实现有非常大的难度,尤其是薄片工艺和背面工艺,目前这方面国内还有一些差距。